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- XTrace-基于SEM高性能微區熒光光譜儀
XTrace-基于(yu)SEM高性能微區熒光光譜儀采(cai)用了Ｘ射線毛細導管技(ji)術，利用該(gai)技(ji)術，即使在非常小的樣品區域(yu)也能產生很高的熒光強度。Ｘ射線毛細導管將(jiang)Ｘ射線源的大(da)部分(fen)射線收(shou)集，并(bing)將(jiang)其聚焦成直徑(jing)35微米的一個Ｘ射線點(dian)。
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- 更新日期：2023-03-20 ￥面議
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- 精密刻蝕鍍膜系統PECS II 685
精密刻蝕(shi)鍍膜系統PECS II 685，一款桌面型寬(kuan)束氬離子拋(pao)(pao)光及(ji)鍍膜設備(bei)。對于同(tong)一個樣品，可在同(tong)一真空環境下完成拋(pao)(pao)光及(ji)鍍膜。
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- ChromaCL2第二代實時彩色陰極發光成像系統
ChromaCL2第二(er)代實(shi)時(shi)彩色陰極發(fa)(fa)光成像(xiang)(xiang)系(xi)統，是一(yi)款*的(de)產品。它具有高效的(de)光學采集和色散能力(li)(li)，采用陣列光電倍增(zeng)管得到高增(zeng)益光探測能力(li)(li)。通(tong)過DigitalMicrograph軟(ruan)件實(shi)時(shi)地將光子脈沖信號混合成實(shi)時(shi)彩色陰極發(fa)(fa)光圖(tu)像(xiang)(xiang)。
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- Gatan原位加熱臺Murano 525
Gatan原位(wei)加熱(re)臺Murano 525,精(jing)悍緊湊(cou)，能方便地與(yu)大(da)多(duo)數掃描電鏡(jing)的標準樣品(pin)臺接口，它包含一個絕熱(re)接口，適用于二次電子像、電子背散射衍射（EBSD）與(yu)聚焦離子束(shu)（FIB）加工。能夠對大(da)至9mm x 4.5mm x 1.5mm大(da)小的樣品(pin)進行快速(su)加熱(re)。
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- MICROTEST 2000E系列原位動態拉伸試驗臺
MICROTEST 2000E系列原位動態拉(la)伸試驗臺(tai)，可以對金屬樣品施加高達2000N的拉(la)力，用戶EBSD分析(xi)，或者對一些其(qi)他材料進行常規的應力-應變分析(xi)和SEM成像。試樣夾具70度角(jiao)度傾(qing)斜，為EBSD分析(xi)提供了的設置(zhi)。
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- MICROTEST系列原位動態拉伸試驗臺
MICROTEST系列原位動態拉(la)伸(shen)試(shi)驗臺(tai),金屬及鍍層：用于(yu)研(yan)究晶(jing)粒(li)變化、鍍層結合(he)情況、高溫形(xing)變及松弛機(ji)理(li)、晶(jing)粒(li)旋轉及織構變化。復合(he)材料(liao)：用于(yu)研(yan)究材料(liao)韌性及強度;纖維：研(yan)究材料(liao)強度
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